Imec präsentiert das erste Design Pathfinding Process Design Kit für N2 Node

The design pathfinding PDK allows for digital designs with 2nm Gate All Around (GAA) technology including backside connectivity.

The design pathfinding PDK allows for digital designs with 2nm Gate All Around (GAA) technology including backside connectivity.

Imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, präsentiert auf der IEEE International Solid-State Circuits Conference (ISSCC) 2024 sein Open Process Design Kit (PDK) mit einem begleitenden Trainingsprogramm, das über EUROPRACTICE angeboten wird. Das PDK wird virtuelle digitale Entwürfe in der N2-Technologie von imec ermöglichen, einschließlich des Backside Power Delivery Network. Das PDK wird in EDA-Tool-Suiten, wie z.B. von Cadence Design Systems und Synopsys, eingebettet und bietet so einen breiten Zugang zu fortschrittlichen Knotenpunkten für die Entwurfsfindung, Systemforschung und Schulung. Damit erhalten Hochschulen und Industrie die Werkzeuge, um die Halbleiterexperten von morgen auszubilden und die Industrie in die Lage zu versetzen, ihre Produkte durch sinnvolle Designpfade in Technologien der nächsten Generation zu verwandeln.

Die PDKs der Foundries bieten den Chipdesignern Zugang zu einer Bibliothek mit getesteten und bewährten Komponenten, um funktionale und zuverlässige Designs zu erstellen. Diese sind in der Regel für das Ökosystem verfügbar, sobald die Technologie eine gewisse Fertigungsreife erreicht hat. Der eingeschränkte Zugang und die Notwendigkeit von NDAs haben jedoch dazu geführt, dass der Zugang zu fortgeschrittenen Technologieknotenpunkten während ihrer Entwicklung für die Wissenschaft und die Industrie eine hohe Schwelle darstellt. Der Zugang zum imec N2 PDK wird sowohl der akademischen Welt als auch kommerziellen Unternehmen helfen: "Wenn wir eine neue Generation von Chipdesignern gewinnen wollen, müssen wir ihnen frühzeitig Zugang zu der Infrastruktur verschaffen, die sie benötigen, um ihre Designfähigkeiten auf den fortschrittlichsten Technologieknoten zu entwickeln. Die begleitenden Schulungskurse werden diese Designer so schnell wie möglich auf den neuesten Stand bringen und sie mit den jüngsten technologischen Umwälzungen wie Nanobauelementen und der Waferrückseitentechnologie vertraut machen. Das Design Pathfinding PDK wird Unternehmen auch dabei helfen, ihre Designs auf zukünftige Technologieknoten zu übertragen und Skalierungsengpässe für ihre Produkte zu vermeiden", erläutert Julien Ryckaert, VP Logic Technologies.

Das Design Pathfinding PDK enthält die notwendige Infrastruktur für das digitale Design auf der Grundlage einer Reihe von digitalen Standardzellenbibliotheken und SRAM IP-Makros. In Zukunft wird die Design Pathfinding PDK-Plattform auf weitere fortgeschrittene Nodes (z.B. A14) erweitert werden. Das Trainingsprogramm wird Anfang des 2. Quartals beginnen und den Teilnehmern die Besonderheiten des Technologieknotens N2 vermitteln sowie praktische Übungen auf digitalen Designplattformen unter Verwendung der EDA-Software von Cadence und Synopsys anbieten. 

"Die Förderung von Ingenieuren, die mit der notwendigen Technologie ausgestattet sind, um transformative Produkte zu entwickeln, ist für die Halbleiterindustrie von entscheidender Bedeutung", erklärt Brandon Wang, Vice President, Technical Strategy & Strategic Partnerships bei Synopsys. "Das Design Pathfinding PDK von Imec ist ein hervorragendes Beispiel dafür, wie Industriepartnerschaften den Zugang zu fortschrittlicher Prozesstechnologie für die aktuelle und nächste Generation von Entwicklern erweitern können, um ihre Halbleiterinnovationen zu beschleunigen. Unsere Zusammenarbeit mit imec bei der Bereitstellung eines zertifizierten, KI-gesteuerten digitalen EDA-Design-Flows für dessen N2 PDK ermöglicht es Design-Teams, Prototypen zu erstellen und den Übergang zu Technologien der nächsten Generation mit Hilfe einer virtuellen PDK-basierten Design-Umgebung zu beschleunigen."

"Cadence ist bestrebt, mit Universitäten und Forschungseinrichtungen zusammenzuarbeiten, um Innovationen voranzutreiben und die Entwicklung von Arbeitskräften für die Nano- und Mikroelektronikindustrie zu unterstützen", kommentiert Yoon Kim, VP Cadence Academic Network. "Cadence und Imec können auf eine lange Geschichte erfolgreicher Zusammenarbeit bei verschiedenen Projekten zurückblicken, und das neue PDK von Imec zur Design-Pfadfindung ist ein wichtiger neuer Meilenstein für die Ausbildung der nächsten Generation von Siliziumentwicklern. Imec hat alle Werkzeuge der branchenführenden KI-gesteuerten digitalen und benutzerdefinierten/analogen Full Flows von Cadence verwendet, um das Design Pathfinding PDK zu erstellen und zu validieren. Damit wird sichergestellt, dass akademische und industrielle Partner Zugang zu einem vollständigen Cadence-Flow an den fortschrittlichsten Knotenpunkten haben, der ihnen den nahtlosen Übergang zur nächsten Generation von Designs ermöglicht."