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Alle Veröffentlichungen zur Rubrik Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Luc Van de hofe and Nicole Hoffmeister-Kraut
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

New partnership enables an innovative network together with academia and industry partners to strengthen digital sovereignty in Europe

Baden-Württemberg attracts imec to lead development of chiplet-based technology for automotive applications

Imec, a world-leading research and innovation hub in nanoelectronics and digital technologies, and the State Government of Baden-Württemberg, Germany, today announced, at the Hannover Trade Fair, the launch of the Advanced Chip Design Accelerator (ACDA). The new imec competence center in Baden-Wür…

Starke Nachfrage aus dem Pharma- und Halbleitersektor führt zu Erweiterung des chinesischen Vertriebsnetzes. (Copyright: LUM GmbH)
  • Unternehmen

LUM GmbH und Alpharmaca Inc. starten Zusammenarbeit im Februar

Starke Nachfrage aus dem Pharma- und Halbleitersektor führt zu Erweiterung des chinesischen Vertriebsnetzes

Im Februar 2025 hat die LUM GmbH eine strategische Vertriebspartnerschaft mit der chinesischen Firma Alpharmaca Inc. mit Sitz in Shanghai begonnen, um der starken Nachfrage aus dem pharmazeutischen Bereich und aus dem Halbleitersektor nachzukommen und den Kunden auch mit hoher lokaler Expertise bei…

Abbildung 1 – Top-down-REM-Aufnahmen von Mäandern (links) und Gabeln (rechts) mit 20 nm Abstand nach der Musterübertragung in eine TiN-Hartmaske. / Figure 1 - Top-down SEM pictures of 20nm pitch meanders (left) and forks (right) after pattern transfer into TiN hard mask. Abbildung 2 – TEM-Bild metallisierter Drähte mit 20 nm Abstand nach einem chemisch-mechanischen Poliervorgang (CMP). / Figure 2 - TEM picture of metallized 20nm pitch wires after a chemical mechanical polishing (CMP) step.
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Erste elektrische Tests mit 20 nm Pitch stellen einen weiteren Meilenstein bei der Validierung des High NA Extreme Ultraviolet (EUV) Patterning Ecosystem dar

Imec belegt die elektrische Leistungsfähigkeit von Metallleitungen mit einem Pitch von 20 nm, die mit High NA EUV Single Patterning hergestellt wurden

Diese Woche präsentiert imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, auf der SPIE Advanced Lithography + Patterning die ersten Ergebnisse des elektrischen Tests (e-test), die mit Metallleitungsstrukturen mit einem Pitch von 20 nm er…

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