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Vertikaler Pufferleckstrom in Durchlassrichtung, gemessen an 1200V GaN-on-QST® bei zwei verschiedenen Temperaturen: (links) 25°C und (rechts) 150°C. Der 1200V-Puffer von Imec zeigt einen vertikalen Leckstrom unter 1µA/mm2 bei 25°C und unter 10µA/mm2 bei 150°C bis zu 1200V mit einem Durchbruch von über 1800V sowohl bei 25°C als auch bei 150°C, was ihn für die Verarbeitung von 1200V-Bauteilen geeignet macht. / Vertical forward buffer leakage current measured on 1200V GaN-on-QST® at two different temperatures: (left) 25°C and (right) 150°C. Imec’s 1200V buffer shows vertical leakage current below 1µA/mm2 at 25°C and below 10µA/mm2 at 150°C up to 1200V with a breakdown in excess of 1800V both at 25°C and 150°C, which makes it suitable for the processing of 1200V devices.

Dieses bahnbrechende Ergebnis ebnet den Weg für den Eintritt von GaN in den SiC-Hochspannungsbereich

Imec und AIXTRON präsentieren 200-mm-GaN-Epitaxie auf AIX G5+ C für 1200-V-Anwendungen mit einem Breakdown bei über 1800 V

Imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, und AIXTRON, der führende Anbieter von Beschichtungsanlagen für Verbindungshalbleiter-Materialien, haben das epitaktische Wachstum von Galliumnitrid (GaN)-Pufferschichten vorgestellt, di…

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