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Hightech-Fab von Jenoptik in Dresden erhält hochmoderne Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage

Investition in neue Fertigungsanlage für die Halbleiterausrüstungsindustrie.

Konzeptbild der neuen Fab. © studiobrand.3dvisuals / Concept image of the new high-tech fab. © studiobrand.3dvisuals
Konzeptbild der neuen Fab. © studiobrand.3dvisuals / Concept image of the new high-tech fab. © studiobrand.3dvisuals

Der Photonik-Konzern Jenoptik investiert einen niedrigen zweistelligen Millionenbetrag in den Anlagenpark der derzeit entstehenden Hightech-Fab in Dresden. Mit der neuen Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage („E-Beam“) werden zukünftig hochpräzise mikrooptische Komponenten für Kunden aus dem Halbleiterbereich und der optischen Kommunikation hergestellt. Die Lieferung der Anlage erfolgt Anfang 2025. Hersteller ist der in Jena ansässige E-Beam-Technologiespezialist Vistec Electron Beam GmbH.

Kleinste Strukturen mit höchster Präzision erschaffen

Eine derartige Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage kann Strukturen mit einer Präzision im 10-Nanometer-Bereich (ungefähr 1/2.000stel eines Haares) auf bis zu 300 mm großen Substraten „schreiben“.

Die Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage Vistec SB3050-2 basiert auf dem sogenannten variablen Formstrahl-Prinzip, mit dem auch große Flächen hochgenau und effektiv strukturiert werden können. Der hohe Automatisierungsgrad, bei gleichzeitiger Flexibilität in Bezug auf nutzbare Substrate, sind weitere Eigenschaften der Vistec SB3050-2, die deren Einsatz in industrieller Umgebung ermöglichen. Die Ausstattung der Anlage mit Zellprojektions-Funktionalität eröffnet weitere Möglichkeiten für Anwendungen in der Mikrooptik.

Jenoptik ist bereits seit 2007 in Dresden aktiv. Mit der neuen Hightech-Fab im Airportpark Dresden bündelt das Unternehmen die aktuell über mehrere kleine Außenstandorte verteilte Fertigung, gleichzeitig werden die Kapazitäten erweitert. So erstreckt sich die Reinraumproduktion in der neuen Fab auf 2.000 Quadratmetern mit Reinraumbereichen der Klassen ISO 5 und 3 und genügt höchsten Anforderungen an Schwingungsfreiheit und Temperaturkonstanz.

Für die gesamte Fab werden hohe Umweltstandards berücksichtigt: Jenoptik strebt an, mit dem „KfW 40 Standard“ und der „LEED Gold-Standard Zertifizierung“ die aktuell umfassendsten und strengsten Gebäude-Kriterien in Sachen Nachhaltigkeit zu erfüllen. Gleichzeitig entstehen hochwertige Arbeitsplätze, die Mitarbeiterzahl wird sich vor Ort auf insgesamt mehr als 120 Beschäftigte erhöhen. Die sächsische Landeshauptstadt wird so zum Hauptstandort für den Bereich Mikrooptik.


JENOPTIK AG
07743 Jena
Deutschland


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