![TEM-Querschnitte von Ru-Bahnen mit 18 nm Metallabstand: (links) AR 3, (rechts) AR 6. Die TEMs zeigen ein nahezu vertikales Profil der Ru-Bahnen und die Skalierbarkeit des aktuellen Schemas zu höheren ARs. / Cross-section TEMs of Ru lines with 18nm metal pitch: (left) AR 3, (right) AR 6. The TEMs demonstrate a nearly vertical profile of the Ru lines and scalability of the current scheme towards higher ARs. TEM-Querschnitte von Ru-Bahnen mit 18 nm Metallabstand: (links) AR 3, (rechts) AR 6. Die TEMs zeigen ein nahezu vertikales Profil der Ru-Bahnen und die Skalierbarkeit des aktuellen Schemas zu höheren ARs. / Cross-section TEMs of Ru lines with 18nm metal pitch: (left) AR 3, (right) AR 6. The TEMs demonstrate a nearly vertical profile of the Ru lines and scalability of the current scheme towards higher ARs.](/uploads/images/_scale/imecsemidamascene_169_626x352.jpg)
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Imec zeigt einen Weg zur Halbierung des Leitungswiderstands durch Semi-Damascene mit High-Aspect-Ratio Processing
Imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, präsentierte auf der IEEE International Interconnect Technology Conference 2022 (IITC 2022) Technologien zur Verringerung des Metallleitungswiderstands bei engen Metal Pitches, um den Ans…