![Montage eines High-NA EUV-Tools im gemeinsamen High-NA-Labor von imec und ASML am Hauptsitz von ASML in Veldhoven, Niederlande. (Bildnachweis: ASML) / Assembly of a High NA EUV tool in joint imec-ASML High-NA lab at ASML’s headquarters in Veldhoven, the Netherlands. (Credit: ASML) Montage eines High-NA EUV-Tools im gemeinsamen High-NA-Labor von imec und ASML am Hauptsitz von ASML in Veldhoven, Niederlande. (Bildnachweis: ASML) / Assembly of a High NA EUV tool in joint imec-ASML High-NA lab at ASML’s headquarters in Veldhoven, the Netherlands. (Credit: ASML)](/uploads/images/_scale/highnaeuvtool_169_626x352.jpg)
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Fortschritte bei Prozessen, Masken und Messtechnik erlauben es, den Fortschritt bei der Auflösung, den der erste ASML 0.55NA EUV-Scanner bietet, voll zu nutzen.
Imec demonstriert die Bereitschaft des High-NA EUV Patterning Ökosystems
Diese Woche präsentiert imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, auf der 2024 Advanced Lithography + Patterning Conference die Fortschritte bei EUV-Prozessen, Masken und Metrologie, die für die extreme Ultraviolett-Lithographie…