Die Zeit nutzen und effizient Entscheidungen vorbereiten

Es ist eine schwierige Zeit für die Halbleiterbranche, schwierige Zeit für Entscheidungen. Unruhe und Ungewissheit führen dazu, dass Investitionen verschoben werden. Doch was spricht dagegen diese Zeit effektiv dafür zu nutzen, relevante Informationen für Entscheidungen einzuholen? Denn verschoben oder nicht, nach jeder Krise folgt ein Aufschwung und für diesen sollte man vorbereitet sein.

Was die Entscheidung für die nächste Nassprozessanlage angeht, unterstützt das AP&S Demo Center. Das Team von erfahrenen Prozessingenieuren hilft dabei, alle relevanten Entscheidungskriterien lückenlos abzuchecken und Entscheidungen bestens vorzubereiten.

Wie funktioniert es?

Der Kunde fragt bei AP&S eine Demonstration des Nassprozesses bzw. der Nassprozessanlage an, die ihn interessiert. Per live Video-Chat kann der Kunde dem Nassprozess beiwohnen und die Resultate auf seinem Bildschirm sehen. Sollten man zeitlich verhindert sein? Kein Problem, das Team von AP&S nimmt den Prozess mit der integrierten Kamera in der Prozesskammer auf und schickt dem Kunden die Aufnahmen zu.

Zusätzlich erhält der Kunde einen detaillierten Testreport inclusive aller relevanten Prozess – und Anlagen-parameter, Angaben zum Chemikalienverbrauch und mehr, so dass man anhand dieser Daten in der Lage sein wird, die CoO des Equipments für die Fertigung berechnen zu können.

Gemäß den Prozessergebnissen der Demonstration erstellen die Prozessingenieure eine Empfehlung für eine plausible Anlagenkonfiguration, die passgenau auf die jeweiligen Bedürfnisse und Anforderungen zugeschnitten ist.

Das Demo Center von AP&S entspricht der Reinheitsklasse ISO5. Somit werden alle Prozessdemonstrationen unter produktionsnahen Bedingungen durchgeführt. Durch die Prozessierung unter Reinraumbedingungen können verarbeitete Wafer vom AP&S Demo Center ohne zusätzliche Reinigungsschritte direkt beim Kunden analysiert und überprüft werden.

Seit 2013 steigt die Anzahl der Kundendemonstrationen im AP&S Demo Center stetig an. In 2018 wurde dieses um weitere Anlagen erweitert, ein hochmodernes Mikroskop mit CCD Kamera wurde beschafft. Es sind sowohl Single Wafer als auch einige Batch Prozess-Demonstrationen möglich.

Folgende Prozesse bietet AP&S im Demo Center an: Metal Lift-off, PR-Strip, Metal Etch mit End-Point-Detection, weitere Ätzprozesse (dHF max. 0.5%), Maskenreinigung, diverse Substratreinigungen, NID Trocknung von Standard-Substraten, Taiko, MEMS, Dünnwafern, etc.