Nasschemie-Anwender aus aller Welt zu Gast in der Heimatstadt von AP&S

Mit so vielen Teilnehmern wie noch nie, und das oder vielleicht gerade wegen dem Veranstaltungsort Donaueschingen mitten im Schwarzwald, startete das wichtige Branchenevent für die internationale Siliziumtechnologie am 4. April 2019 in den Donauhallen.

„11th European Wet Users Meeting und 40th European CMP Users Meeting“ ist eine jährlich stattfindende Konferenzveranstaltung mit einem wechselnden Austragungsort. Die Oberflächenbehandlung im Mikrochipherstellungsprozess steht hierbei im Fokus. Hier treffen sich Nutzergruppen aus China, Europa, Japan, Korea, Taiwan und den USA zusammen, um Fachvorträge zu aktuellen Entwicklungen und Herausforderungen in den Bereichen nasschemische Bearbeitung und chemisch-mechanisches Polieren von Wafern (CMP) anzuhören und sich zu diesen Themen intensiv auszutauschen.

Offizieller Veranstalter des Events ist die deutsche VDE/VDI-Gesellschaft für Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik in Kooperation mit zwickerconsult und Erzm-Technologien, organisatorische Unterstützung lieferte dieses Mal AP&S International GmbH.

„Die Idee, das Event in diesem Jahr nach Donaueschingen zu holen, fanden wir von Anfang an genial und haben den Hauptorganisatoren unsere volle Unterstützung zugesagt. Es ist unsere Heimatstadt, hier kennen wir uns aus, ob es darum ging eine Location zu finden, Hotels für Teilnehmer zu organisieren     oder darum das Rahmenprogramm attraktiv zu gestalten – es hat super funktioniert und Spaß gemacht“ so Sinja Weißmann, Sales Assistant bei AP&S.

„Dass Schwarzwald IN ist, das wussten wir wohl“, ergänzt Tobias Bausch, AP&S VP Sales & Marketing, „die außergewöhnlich hohe Anzahl der Anmeldungen hat unsere Erwartungen jedoch übertroffen, vor allem wenn man bedenkt, dass vorherige Austragungsorte u.a. Dublin (Irland), Amsterdam (Holland), Berlin und Grenoble (Frankreich) waren. Umso mehr freuten wir uns darauf, die Teilnehmer bei uns begrüßen zu dürfen. Die Agenda überzeugte mit insgesamt 17 spannenden Vorträgen. Auch wir als Experte für nasschemische Prozesse trugen zwei Vorträge bei, diese waren: „Entwicklung und Qualifizierung von Strömungsverhalten für eless UBM-Prozesse“ und „Auswirkungen auf die Partikelqualifizierung von Nassprozessanlagen vor der Auslieferung“. Eine abwechslungsreiche Ergänzung zur Konferenz schuf das Abendprogramm, bei welchem die Teilnehmer regionale Sehenswürdigkeiten zu sehen bekamen.“