Was sagen die Referenten im Vorfeld zu ihren Präsentationen?

TE Connectivity - Volker Seipel, Manager Platform Element Engineering Core Technologies:

"Elektrische Stanzkontakte werden infolge des Produktionsprozesses mit Ölen und anderen Fluiden kontaminiert. Der Vortrag beschreibt, welchen Einfluss diese Kontaminierungen haben können, und wie TE prozesssichere Produkte zur Verfügung stellt. Die Konferenz stellt für mich ein Forum dar, um vor allem Kontakte zu knüpfen und zu lernen."

HMT - Häseler Metall Technik - Dominik Falk, Geschäftsbereichsleiter Oberflächentechnik:

"Das Thema Filmische Verunreinigungen ist schon lange ein großes Thema in unserem Unternehmen. Aus diesem Grund sind wir immer auf der Suche nach geeigneten Messverfahren. Wenn wir Verfahren mit Potential gefunden haben, testen wir diese bei uns und stellen sie der momentan gängigen Praxis gegenüber. Hier zeigt sich dann sehr schnell, wie geeignet das Verfahren schon ist bzw. welches Potential in dem Verfahren steckt und wo es noch weiterentwickelt werden muss.

Ich freue mich auf das Event, ist es doch einzigartig in der Brache. Bei der Fachkonferenz hat man gleichermaßen OEM’s und die gesamte Zulieferkette beisammen. Das schöne dabei ist, dass alle auf Augenhöhe diskutieren und man ein sehr gutes Fachwissen zusammen hat, neue Trends erfährt und Praxisbeispiele und Umsetzungen miteinander teilt.

Witzenmann GmbH - Andrea Krause, Abteilung ti-ts Entwicklung Technische Sauberkeit:

"Im Fertigungsprozess werden verschiedene Hilfs- und Betriebsstoffe eingesetzt, die notwendig sind, damit der Prozess überhaupt funktioniert. Leider sind diese nicht immer frei von „Nebenwirkungen“ und können in nachfolgenden Prozessschritten zu gravierenden Störungen führen. Das klingt dramatisch, ist aber beherrschbar, da Auffälligkeiten in der Regel zeitnah bemerkt werden. Dieser Problemkreis lässt sich durch geeignete Reinigungsschritte minimieren. Das gilt im Prinzip auch für die Montage durch den Kunden, der entsprechende Anforderungen an das Produkt definiert.

Schwieriger ist es, unerwünschte Effekte im späteren Betrieb zu vermeiden. Dafür ist es notwendig, alle Stoffe zu kennen, die im Prozess planmäßig oder auch zufällig mit dem Produkt in Kontakt kommen können. Um potenzielle Risiken im Einsatz zu bewerten, müssen die Betriebsbedingungen einbezogen werden. Harmlose Rückstände aus dem Fertigungsprozess können unter Einsatzbedingungen zerfallen und aggressive Stoffe freisetzen. Das erfordert eine ganzheitliche Betrachtung über den eigenen Prozess hinaus und eine enge Zusammenarbeit mit den Kunden.

Ich werde an Hand eines Beispiels zeigen, wie vielschichtig die beteiligten Stoffe und ihre „Nebenwirkungen“ sein können und wie Simulation bei der Abschätzung des Risiko-Potenzials helfen kann."

nanoAnalytics - Dr. Andreas Schäfer, Geschäftsführung und Laborleitung:

"In meinem Vortrag geht es um die Einsatzmöglichkeiten der Laboranalytik im Bereich filmischer Kontaminationen und wie man filmische Verunreinigungen möglichst genau charakterisieren kann. Häufig geht es ja vor allem darum, die beteiligten Substanzen zu identifizieren. In anderen Fällen soll die laterale Verteilung oder die Belegungsstärke untersucht werden. Neben einer kurzen allgemeineren Einführung wird der Fokus auf Beispielen liegen. Ich freue mich natürlich darauf, bei dieser Konferenz alte Bekannte zu treffen, vor allem aber auch neue Kontakte zu knüpfen. Das Feld, in dem filmische Verunreinigungen eine Rolle spielen, ist sehr breit. Von daher knüpft man bei Veranstaltungen zu diesem Thema fast zwangsläufig auch immer wieder neue, interessante Kontakte."

Carl Zeiss SMT - Dr. Roland Steiner, Director Cleaning Technology:

"Ich werde präsentieren, inwiefern filmische Verunreinigungen (neben anderen) eine wichtige Rolle schon bei der Herstellung von Lithographiesystemen spielen. Von zentraler Bedeutung ist, dass der Nachweis, die Vermeidung und letztlich die Entfernung derartiger Kontaminationen bereits bei der Herstellung und über die gesamte Zulieferkette erfolgt. Ich werde hier auf Aspekte der Prozessentwicklung beim ZEISS Unternehmensbereich Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) eingehen."

OHB Systems - Dr. Axel Müller, Cleanliness Engineer:

"Mein Vortrag handelt von speziell chemisch-filmbildenden Reinheitsanforderungen in der Raumfahrt. Bei der Aufgabe, hochauflösende Aufnahmen oder Spektroskopie der Erde aus einer Entfernung von 36 000 km zu garantieren, sind besondere Vorkehrungen bezüglich Reinheit in Design, Materialauswahl und Einsatzmethoden leicht verständlich. Darüber hinaus bedingt der wartungsfreie Betrieb Besonderheiten in Prozesssicherheit (Kleben), welche Anforderungen an Oberflächenreinheit und Nachweismethoden nach sich ziehen. Die beiden Aspekte sollen aufgezeigt werden und zu einem branchenübergreifenden Erfahrungsaustausch einladen."

OLYMPUS EUROPA - Markus Fabich, Vertical Market Specialist Manufacturing Scientific Solutions Division:

"An sich ist die (Fluoreszenz-) Mikroskopie anerkannter Stand der Technik. Dennoch ist „einfach“ nicht das Wort, das vielen dabei über die Lippen geht. Ich bin überzeugt, vermitteln zu können, wie moderne FL-Mikroskopie die Routine in der Verunreinigungsprüfung einfacher und zuverlässiger gestaltet. Kann sein, dass die Zeit noch reicht, auch noch Einblicke in die UV Videoskopie und den aktuellen Stand der Röntgenfluoreszenzanalytik zu geben."

CSC JÄKLECHEMIE - Dr. Martin Hanek, Business Development (ST/E) Bereichsleitung Oberfläche:

"Der Titel meiner Präsentation ist: Nassreinigungsverfahren- Stärken der Medien nutzen. Ich behandle die praxisrelevanten wässrigen- und Lösemittelverfahren. Es geht um die Stärken und Schwächen der jeweiligen Reinigungsverfahren und die Frage, wie man die Stärken gezielt nutzt, um ein optimales Ergebnis zu erzielen.

Reinigen so gut wie nötig, nicht so gut wie möglich! Es ist meine erste Teilnahme an dieser Fachkonferenz. Ich freue mich auf interessante Vorträge, anregende Diskussionen und Herausforderungen zum Thema Teilereinigung."