SÜSS MicroTec veranstaltet Technologieforum zum Thema Nanoimprint in Grenoble

SÜSS MicroTec, führender Hersteller von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, veranstaltet am 24. Juni 2014 ein Technologie Forum zum Thema Nanoimprint Lithografie in Grenoble. Während des eintägigen Workshops werden Experten aus Industrie sowie Forschung und Entwicklung aktuelle Trends und Entwicklungen in der Nanoimprint Lithografie vorstellen und diskutieren. Im Rahmen der Veranstaltung besteht die Möglichkeit, die Reinräume des CIME nanotech (Centre Interuniversitaire de MicroElectronique et Nanotechnologies) zu besichtigen.

Um sich für die Veranstaltung zu registrieren, ist ein Besuch der Firmen-Webseite www.suss.com erforderlich.

Die Nanoimprint Lithografie (NIL) ist eine vielseitige Schlüsseltechnologie für Produktionstechnologien im Nanobereich und ist Bestandteil des ITRS Lithografie-Fahrplans im Hinblick auf die Machbarkeit von Strukturbreiten von 32 und 22 nm. Bei der Replikation von Strukturen im Nanometerbereich von einem Master-Stempel hat sich diese Technologie als besonders effektiv erwiesen. Die Zuverlässigkeit des Replikationsprozesses hängt dabei von der Fähigkeit ab, einen entsprechenden maßhaltigen Master-Stempel herzustellen.  NIL hat sich bereits bei Auflösungen von unter 50 µm bewährt, und das bei vergleichsweise niedrigen Kosten. Es kann deshalb erwartet werden, dass diese Technologie eine führende Rolle bei der Kommerzialisierung von Nanostrukturen spielen wird. Die Maschinen von SÜSS MicroTec unterstützen neue und kostensparende Mikro-/Nanoreplikationstechnologien wie UV-Nanoimprinting für kleine oder große Flächen.

“Das Technologie Forum ist unsere globale Plattform für Workshops und findet im Markt eine große Akzeptanz. Viele Kunden und Partner nutzen das Forum zum Informationsaustausch und zum Netzwerken.“, erklärt Frank P. Averdung, Vorstandsvorsitzender der SÜSS MicroTec AG. „Nanoimprinting ist eine vielseitig einsetzbare Technologie für verschiedenste Anwendungsbereiche, deshalb erwarten wir interessante Vorträge und Diskussionen im Rahmen des Forums.“