High Tech Kosmetik setzt auf Highly Purified Water
Die internationale Kosmetikindustrie greift nun auch zu den Standards der Prozess-und Reinigungsregularien der pharmazeutischen Industrie (USP, Pharm Eur und Annex 9 EG-GMP Leitfaden).
Ein international tätiger Kosmetikkonzern hat im eigenen Masterplan der Reinigungsvalidierung festgeschrieben, dass für die Ansatzbehälter einer bekannten Gesichtspflege für die CIP-Reinigung pro Chargenwechsel jeweils nur Highly Purified Water gem. Pharm Eur zur Anwendung kommen darf. Hintergrund ist die Prozesssicherheit, dass alle Produkte aus der „Visage-Linie“ unter einheitlichen, hochreinen Bedingungen auch an unterschiedlichen Produktionsstandorten für den gesamten Weltmarkt hergestellt werden.
Mit der Ausführung der Anlagen wurde Werner in Leverkusen beauftragt. Die erste HPW-Einheit mit einer konstanten Leistung von 4 m³/h wurde erfolgreich im polnischen Werk des Konzerns validiert.
Das HPW-System wird über eine bereits vorhandene, zentrale Enthärtungsanlage gespeist. Um den hohen mikrobiologischen Anforderungen gerecht zu werden, wird vor allem im Hinblick auf eine einfache Validierung eine komplette thermische Sanitisierung des HPW System mit Heißwasser bei 85 °C realisiert. Unabhängig von der Tatsache, dass dieses System über keine implementierte Enthärtungsanlage verfügt, wird erneut das Werner TS-Plus System zur ressourcenschonenden Sanitisierung gewähl: Sowohl im Rahmen der thermischen Sanitiserung als auch im Stand By Betrieb werden durch das Werner TS-Plus System alle Stoffströme rezirkuliert, so dass die Betriebskosten auf ein absolutes Minimum reduziert werden.
Zum Jahresende geht in Thailand eine zweite HPW-Linie in Betrieb: Baugleich mit der ersten HPW-Linie wird das schlüsselfertige Gesamtsystem von Werner (5 m 3/h mit Erweiterungsoption auf 10m 3/h) in Leverkusen errichtet und vorqualifiziert. Ein gemeinsamer FAT in Deutschland ermöglicht eine schnelle und störungsfreie Installation und Inbetriebnahme vor Ort in Thailand.
Bild: Werner HPW System Kosmetik 5m3/h
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