Ausbau des Halbleiterstandortes Itzehoe

Ausbau des Halbleiterstandortes Itzehoe

Das Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie ISIT ist eine der weltweit führenden und modernsten Forschungseinrichtungen im Bereich der Mikrosystemtechnik und Mikroelektronik. Mit finanzieller Unterstützung der Landesregierung wird das Fraunhofer ISIT massiv ausgebaut und modernisiert. Ministerpräsident Peter Harry Carstensen übergab heute (15. Juni) dem Leiter des ISIT, Prof. Wolfgang Benecke, im Beisein von zahlreichen Vertretern aus Wissenschaft, Wirtschaft und Politik den endgültigen Förderbescheid der Landesregierung über 27,45 Millionen Euro für den Bau eines weiteren Gebäudes auf dem ISIT-Gelände mit Reinraum-, Labor- und Büroflächen. Diese moderne Infrastruktur wird das ISIT gemeinsam mit Industriepartnern nutzen, um fortschrittliche Prozesse und Bauelemente der Mikrosystemtechnik zu entwickeln.

Mit dem Bau werden bestehende Engpässe beseitigt und neue Möglichkeiten für Industriekooperationen geschaffen. Der Gesamtumfang der geplanten Investition beträgt 36,6 Millionen Euro, 9,15 Millionen Euro investiert die Fraunhofer-Gesellschaft in dieses Projekt.

Die Planungen für den Ausbau laufen seit 2009. Im Jahr 2010 hat die Gebäudemanagement Schleswig-Holstein(GMSH) die Bauplanung geprüft und genehmigt. Auch die Stadt Itzehoe hat zügig die notwendigen Baugenehmigungen erteilt. Jetzt haben die Vorbereitungsarbeiten zur Baustelleneinrichtung begonnen und Ausschreibungen für Bauleistungen werden ab sofort laufend veröffentlicht. Die Fertigstellung des Komplexes ist für 2012 vorgesehen.

Das Herz des neuen 4-stöckigen Gebäudes ist der Reinraumbereich und die als Reinraum später umnutzbaren Labore in Ebene 2. Um dieses Geschoss schichten sich die zusätzlich erforderlichen Ebenen. Die beiden Geschosse über dem Reinraum dienen der Luftaufbereitung: In Ebene 4, der Raumluftzentrale, werden alle Lüftungsgeräte aufgestellt. In der darunterliegenden Ebene 3 wird die Luft durch Feinstfilter geblasen und anschließend in den Reinraum geführt. Die unter dem Reinraum liegende Ebene 1 dient der Verteilung der notwendigen Medien an die Bearbeitungsgeräte sowie der Luftrückführung über spezielle Systeme im Fassadenbereich. Das Basement in Ebene 0 schließlich enthält alle zur Ver- und Entsorgung des Reinraums erforderlichen technischen Anlagen wie die Elektrozentrale oder das Chemikalienlager. Insgesamt entstehen in dem neuen Gebäude 1000 m² Reinraum- und 500 m² Laborflächen sowie Büros für 44 Mitarbeiter. Über eine Brücke wird das Gebäude mit dem bereits bestehenden Labortrakt verbunden.

Mit dem neuen Labor- und Reinraumgebäude wird die bestehende Aussenanlage auf dem ISIT-Gelände zusammen mit einem angelegten Feuerlöschteich zu einem attraktiven Hof umgeformt. Etwas Besonderes haben sich die Architekten und Bauplaner für die Fassade ausgedacht. Sie ist durch ein gleichmäßiges Raster gestaltet und erinnert an die Strukturen auf einem Silizium-Wafer. Dabei sind die großen gleichmäßigen Fassadenelemente mit einer Substruktur in Form gelochter Fassadenelemente versehen. Der neue Baukörper wird sich vis-a-vis des Grundstückzugangs als neues markantes Zeichen für das ISIT präsentieren.

Die kontinuierlich wachsende Nachfrage nach F&E Dienstleistungen vor allem zu den Themenkreisen Elektromobilität und effizienter Umgang mit elektrischer Energie hat am ISIT in der Mikrosystemtechnik, der Leistungselektronik und der Energiespeichertechnik im Laufe der Jahre zu einer Enge geführt, die die Erweiterung dringend notwendig erscheinen ließ. So wurde die Geräteaufstellung im Reinraum ständig verdichtet, Gangflächen wurden in Reinraumlabore umgewandelt, im Basement des alten Reinraumgebäudes wurden provisorische Labore und Reinraumbereiche installiert, Büroräume im Erdgeschoss zu Laboren umgewandelt und externe Lagerflächen für die Zwischenlagerung von Geräten und Ersatzeilen angemietet. Viele Mitarbeiter mussten in Bürocontainer umziehen.

Mit dieser Investition soll die Erfolgsgeschichte des ISIT fortgeschrieben werden, von der auch Schleswig-Holstein profitiert hat. In den knapp zwanzig Jahren seines Bestehens in Itzehoe hat das Institut einen stabilen Kundenstamm von über 350 Unternehmen, davon etwa 50 aus Schleswig-Holstein aufgebaut. 500 Arbeitsplätze sind vor Ort entstanden und über 200 Mio. € industrielle Folgeinvestitionen sind bisher getätigt worden.

Die jetzt beginnende ISIT-Erweiterung ist eng verbunden mit der ebenfalls in 2009 begonnenen Modernisierung der gesamten Technologie, die mittlerweile fast vollständig abgeschlossen ist. Dabei wurden vor allem neue Fertigungsanlagen installiert, die die Bearbeitung großer 200 mm Silizium-Kristallscheiben (Wafer) ermöglichen statt der bis dahin verwendeten 150 mm durchmessenden Wafer. Das ISIT verfügt mit dieser Technologieplattform über eine auch international betrachtet der modernsten F&E Einrichtungen und ist somit sehr gut für die weitere erfolgreiche Zusammenarbeit mit Unternehmen und Institutionen auf dem Gebiet der Mikro- und Nanosystemtechnik aufgestellt.

Die Bedeutung des jetzt beginnenden Ausbaus für das Institut unterstreicht ISIT-Leiter Professor Wolfgang Benecke: "Die neuen technologischen Möglichkeiten werden zu weiteren bilateralen Industrieprojekten und zu öffentlich geförderten Projekten führen. Für das ISIT ergeben sich gute Chancen für einen weiteren Beschäftigungsaufwuchs in Itzehoe über die ISIT-Erweiterung hinaus."

Bild: Modellansicht des geplanten neuen Labor-, Büro- und Reinraumgebäudes beim Fraunhofer ISIT. Ideengeber für die Fassadengestaltung sind Strukturen auf einem Siliziumwafer.