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Alle Veröffentlichungen von Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS

eBeam-Metrologiegeräte von Applied Materials im Reinraum des Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / Applied Materials’ eBeam metrology equipment at cleanroom of Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Neues Europäisches Technologiezentrum für Halbleiter-Messtechnik in Dresden

Applied Materials und Fraunhofer IPMS gründen Technologiezentrum für Halbleiter-Messtechnik

– Das neue Zentrum wird modernste Metrologiesysteme zur Verfügung stellen, um die Halbleiterforschung voranzubringen und Entwicklungsprojekte mit Chipherstellern und Partnern der Branche in ganz Europa zu unterstützen, insbesondere in ICAPS*-Marktsegmenten

– Zusammenarbeit zur Beschleunigung des Lernp…

300 mm Reinraum des Fraunhofer IPMS am CNT. © Fraunhofer IPMS / 300 mm clean room of the Fraunhofer IPMS at CNT. © Fraunhofer IPMS Das Fraunhofer IPMS entwickelt 200 mm Technologien. © Fraunhofer IPMS / Fraunhofer IPMS develops 200 mm technologies. © Fraunhofer IPMS MEMS-Scannerspiegel des Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / MEMS scanner mirrors of Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Fraunhofer IPMS stellte Serviceleistungen im 200/300 mm Halbleiterbereich auf »Semicon Europa« vor

Halbleitertechnologie für Jedermann

Innovative Elektronik erfordert modernste Technologien und Herstellungsverfahren. Für viele Mittelständler eine kaum zu stemmende Investition. Doch dank des Fraunhofer-Instituts für Photonische Mikrosysteme IPMS werden neueste Forschungsergebnisse und Technologien auf 200 und 300 mm Wafern auch f…

200 mm MEMS-Reinraum. © Fraunhofer IPMS / 200 mm MEMS Cleanroom. © Fraunhofer IPMS 300 mm CMOS Reinraum des Center Nanoelectronic Technologies. © Fraunhofer IPMS / 300 mm CMOS-Cleanroom of the Center Nanoelectronic Technologies. © Fraunhofer IPMS MEMS-Lithografie-Kapazitäten mit 248 nm DUV-Cluster und 365 nm iLine Stepper. © Fraunhofer IPMS / MEMS-Lithography-Capabilities with 248 nm DUV-Cluster and 365 nm iLine Stepper. © Fraunhofer IPMS
  • Messe

SEMICON Europa – Fraunhofer IPMS präsentiert sich auf Europas größter Mikroelektronik-Messe

Von der Idee zum Markt – Das Fraunhofer IPMS unterstützt die Industrie mit innovativen Technologien

Auf der bevorstehenden SEMICON Europa, der größten europäischen Messe für Mikroelektronik, stellt das Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS zahlreiche technische Innovationen vor. Diese beinhalten einen spannenden Themenmix aus den Bereichen Halbleiter, Sensorik, Internet of Thi…

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