Fraunhofer ENAS ist Partner im neuen europäischen Projekt »HaloFreeEtch« zur Erforschung innovativer halogenfreier Ätzprozesse

Mehr Nachhaltigkeit in der Halbleiterfertigung

Das Fraunhofer ENAS ist Teil des neuen und im September 2024 gestarteten Projektes »HaloFreeEtch« (»Neue Ansätze zum halogenfreien und nachhaltigen Ätzen von Silizium und Glas«). Das von der Technischen Universität Chemnitz koordinierte Projekt hat eine Laufzeit von 48 Monaten und wird von de…

v.l.n.r. Sebastian Gemkow (links, Sächsischer Staatsminister für Wissenschaft, Kultur und Tourismus), Prof. Dr. Harald Kuhn (Institutsleiter, Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS) und Thomas Schmidt (Sächsischer Staatsminister für Regionalentwicklung). © Fraunhofer ENAS / From left to right: Sebastian Gemkow (left, Saxon State Minister for Science, Culture, and Tourism), Prof. Dr. Harald Kuhn (Director, Fraunhofer Institute for Electronic Nano Systems ENAS), and Thomas Schmidt (Saxon State Minister for Regional Development) © Fraunhofer ENAS

28.09.2024
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Wissenschaft

Freistaat Sachsen fördert mit Mitteln der Europäischen Union neues Test- und Zuverlässigkeitszentrum für Halbleiter in Chemnitz

Das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS in Chemnitz erhält 9,51 Millionen Euro aus dem Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) und dem »Just Transition Fund« (JTF) für den Aufbau eines modernen Kompetenzzentrums für die Test- und Zuverlässigkeitsbewertung von…

Mit dem Aufbau der Mikroelektronik-Akademie legt die Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland (FMD) den Grundstein für moderne Ausbildungsangebote im Bereich der Mikro- und Nanoelektronik. © Fraunhofer Mikroelektronik

Am 1. Dezember 2022 wurde Prof. Gerhard Kahmen, Wissenschaftlich-Technischer Geschäftsführer der IHP GmbH – Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik, zum Direktor der Mikroelektronik-Akademie ernannt. © IHP GmbH

08.01.2023
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Wissenschaft

Für eine Ausbildungsqualität auf höchstem Niveau: FMD startet mit dem Aufbau einer Mikroelektronik-Akademie

Mit dem Start der Mikroelektronik-Akademie legt die Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland (FMD) den Grundstein für moderne Ausbildungsangebote im Bereich Mikro- und Nanoelektronik, um dem Fachkräftemangel in Deutschland entgegenzuwirken. In Kooperation mit Bildungsträgern und Industriepart…

Um den Ressourcenverbrauch im Internet der Dinge, in Anwendungen der KI sowie in Rechenzentren zu reduzieren, sind daher erhebliche Fortschritte in der Mikro- und Leistungselektronik einschließlich deren Herstellungsprozessen nötig. © Fraunhofer Mikroelektronik

Mit der Entwicklung moderner Elektronik für ressourcensparsame Informations- und Kommunikationstechnik zahlt das Kompetenzzentrum »Green ICT @ FMD« auf die Klimaziele der Bundesregierung ein. © Fraunhofer Mikroelektronik

08.12.2022
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Wissenschaft

Startschuss für das Kompetenzzentrum »Green ICT @ FMD«

Um mit Forschung und Entwicklung zur Verringerung des CO2-Fußabdrucks digitaler Technologien beizutragen, bauen die in der Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland kooperierenden Fraunhofer- und Leibniz-Institute gemeinsam ein standortübergreifendes Kompetenzzentrum für eine ressourcenbewusst…

Wartung der 200-mm-Plasmaätzanlage »Applied Materials Centura 5200«, die von memsstar komplett überholt und erweitert wurde. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert / Maintenance on the “Applied Materials Centura 5200” 200 mm plasma etching tool fully remanufactured and augmented by memsstar. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert

Laufende Arbeiten an der Centura 5200. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert / Work in progress at the Centura 5200. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert

02.08.2022
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Unternehmen

Fraunhofer ENAS erweitert Zusammenarbeit mit memsstar

Fraunhofer ENAS und memsstar Limited gehen eine Partnerschaft ein. Um die Qualität der reaktiven Ionenätzprozesse in der MEMS-Fertigung zu sichern und den Durchsatz zu erhöhen, arbeitet das Fraunhofer ENAS nun mit einer komplett überholten »Applied Materials Centura 5200« 200-mm-Plasmaätzanlage.

Das Fraunho…

Dispenstechnologie für Dam&Fill-Prozess auf Waferlevel, PCBs oder Chiplevel.© Fraunhofer ENAS

CAD/CAM-Prozesskette für die Beschichtung von 3D-Objekten, hier am Beispiel einer Magnetfeldsensorik auf einer Getriebekappe demonstriert. © Fraunhofer ENAS

Aerosol-Jet-Druck von Nanopartikel-Lotmaterialien (hier Ag und Sn) auf zylinderförmige Substrate in einer Substrathalterung. © Fraunhofer ENAS

29.03.2022
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3D-Druck

Reinraum-Drucklabor für Packaging auf Wafer-, Chip- und Systemebene

Das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS kombiniert am Standort Chemnitz in einem neuen Reinraumlabor Drucktechnologien für das Packaging von Mikroelektronik-Komponenten auf Wafer-, Chip- und Systemebene. Mit verschiedenen additiven Verfahren und einer neuen Cluster-Anlage für 3…

Messaufbau mit Waferprober, optischen Faserprobes und Wafer mit Teststrukturen. © Fraunhofer ENAS / Measurement setup with wafer prober, optical fiber probes and wafer with test structures. © Fraunhofer ENAS

09.07.2021
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Auswertmittel und -verfahren

Chipintegrierte optische Infrarot-Komponenten

Miniatur-Spektrometer fürs Smartphone

Gefälschte Arzneimittel enttarnen? Wasserproben selbst untersuchen? Die Luftqualität überprüfen? All das könnte künftig per Smartphone möglich sein – schnell, kostengünstig und unkompliziert. Möglich macht es ein nur ein Gramm schweres Spektrometer des Fraunhofer-Instituts für Elektronis…

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