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  • Verpackung

Kompakte Hightech-Abfülllinie für Naturkosmetik

Wenn natürliche Inhaltsstoffe, hochwertige Verarbeitung und moderne Technik harmonieren, entsteht etwas Besonderes. Genau diese Balance suchte der Naturkosmetikhersteller ANNEMARIE BÖRLIND – und fand sie in der Zusammenarbeit mit der Gerhard Schubert GmbH. Gemeinsam entstand eine Abfülllösung, die h…

Die Ende 2024 in Betrieb genommene TLM-Power-Compact-Linie von Schubert vereint auf kleiner Fläche alle Prozessschritte von der Zuführung über das Abfüllen bis zum Siegeln, Verschließen und Etikettieren.

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Vaisala Piepenbrock C-Tec Buchta
Abbildung 1 – (A) X-Cut-HAADF-Rasterelektronenmikroskopieaufnahme eines WS2-Bauelements mit einer CPP von 50 nm, einer Kontaktlänge von 19 nm und einer Breite von 256 nm nach dem Ätzen der Gate-Anschlussleitung. Und (B) die entsprechende energiedispersive Röntgenspektroskopie (EDS)-Analyse. Abbildung 2 – MoS2-nFETs und WSe2-pFETs mit einem Kontaktabstand von 50 nm und einer entspannten Kanalbreite (650 nm), die auf demselben 300-mm-Wafer integriert sind, weisen eine gute Anpassung der Schwellenspannung auf.
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Ein neuartiger 300-mm-Integrationsansatz für Bauelemente auf Basis von 2D-Materialien ermöglicht skalierte n- und p-FETs mit einem contacted poly pitch von 50 nm.

ASML, TSMC und imec machen industrietaugliche Transistoren aus 2D-Materialien durch bahnbrechende 300-mm-Integration greifbarer

– ASML, TSMC und imec stellen einen innovativen 300-mm-Integrationsprozess für Transistoren auf Basis von 2D-Materialien vor, mit dem erstmals skalierte n- und p-FETs mit einem Kontaktabstand (CPP) von 50 nm realisiert werden, die mittels EUV-Lithografie strukturiert wurden.
– Bei den skalierten nFET…

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